他说：很肯定地告诉你，中国的EUV光刻机样机已经上线调测了，由于国产EUV三大件的技术指标都是达到或超过ASML最先进的光刻机的，所以我们不会象台积电》一样7nm，5nm， Anm再3nm，而是直接就 上3nm。也就是说中国在两年以后就会拥有3nm制程量产的国产芯片了。如果2024年有惊喜就更好了。我个人觉得目前光刻机快到极限了，超越或持平是必然的，但是不应该这么快，这个要么假的，要么只存在实验室无法低成本量产，我猜测大概还得5年才能追上吧！各位看图二，去年看的报道说是差距20年，今年就只有3-5年了！各位怎么看？
听说这个号之前爆料挺准的，这次会不会也是真的？
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