比如哈工大团队研发出的超高速精密激光干涉仪为28nm光刻机提供了技术支撑，也为7nm光刻机都研制提供了技术储备。
此外，哈工大研发出了EUV极紫外光源技术也为我国光刻机的研制做出巨大贡献。据悉，长春光机所的曝光系统就采用哈工大的这项技术。
从华为麒麟芯片无人代工，到oppo解散芯片团队，哈工大的光刻机技术突破显得弥足珍贵。为哈工大点赞，为中国高校点赞。
点赞哈工大！哈工大还是有很多技术创新。
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